化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition)技術(shù)，簡(jiǎn)稱(chēng)CVD技術(shù)。它是利用加熱、等離子體增強(qiáng)、光輔助等手段在常壓或低壓條件下使氣態(tài)物質(zhì)通過(guò)化學(xué)反應(yīng)在基體表面上制成固態(tài)薄膜的一種成膜技術(shù)。一般把反應(yīng)物是氣體而生成物之一是固體的反應(yīng)，稱(chēng)為CVD反應(yīng)。利用 CVD反應(yīng)所制備的涂層種類(lèi)較多，特別是在半導(dǎo)體工藝中用途廣泛。例如在半導(dǎo)體領(lǐng)域，原料的精制、高質(zhì)量半導(dǎo)體單晶膜的制備、多晶膜非晶膜的生長(zhǎng)，可以說(shuō)從電子器件到集成電路的制作等無(wú)一不與 CVD技術(shù)有關(guān)。此外，在材料表面處理上更是受到人們青睞。例如機(jī)械、反應(yīng)堆、宇航、醫(yī)用以及化工設(shè)備用等各種材料都可以按照它們的不同要求，采用 CVD 成膜方法制備出具有防腐抗蝕、耐熱、耐磨、表面強(qiáng)化等功能性涂層。

——本文有CVD設(shè)備廠家廣東振華科技發(fā)布。