真空鍍膜技術(shù)在汽車行業(yè)中應(yīng)用廣泛，它能顯著提升汽車零部件的耐磨、耐腐蝕和美觀度。通過真空環(huán)境下的物理或化學(xué)沉積，為車燈、內(nèi)飾件、顯示屏及發(fā)動機部件等鍍上金屬、陶瓷或有機薄膜，增強硬度、提高反射率、延長使用壽命，同時賦予汽車獨特的光澤與質(zhì)感，滿足消費者對品質(zhì)與美觀的雙重追求。振華真空作為一家真空鍍膜設(shè)備制造服務(wù)商，為汽車行業(yè)提供了一系列高效、優(yōu)質(zhì)的鍍膜解決方案，助力汽車行業(yè)發(fā)展。 1.汽車中控屏 汽車中控屏鍍膜能增強表面的耐磨性，有效抵抗日常使用中的劃痕和磨損；優(yōu)化顯示效果，減少反光和眩光，提高屏幕在各種光照條件下的清晰度和可讀性；同時增強抗腐蝕性，鍍膜層隔絕外部腐蝕物質(zhì)，延長中控屏的使用壽命。然而當前鍍膜技術(shù)存在質(zhì)量不穩(wěn)定、可見光透過率低、硬度不足、生產(chǎn)效率低等問題，制約中控屏性能提升，影響用戶體驗、美觀度、使用壽命及市場競爭力。振華SOM-2550連續(xù)式磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備可顯著提升鍍膜工藝穩(wěn)定性和品質(zhì)，改善中控屏實用性能，同時大幅提升生產(chǎn)效率，解決行業(yè)難題。 設(shè)備推薦： SOM-2550連續(xù)式磁控濺射鍍光學(xué)膜設(shè)備 設(shè)備優(yōu)勢： 超硬AR +AF硬度高達9H 可見光透過率最高可達99% 自動化程度高、裝載量大、膜層性能優(yōu)異 2.車載顯示屏 車載顯示屏鍍AR膜能顯著提升透光性，減少眩光與反光，增強視覺體驗；還具備防污易清潔、保護屏幕等特性，全面提升車載顯示屏的性能與用戶體驗。 設(shè)備推薦： 大型立式超多層光學(xué)鍍膜生產(chǎn)線 設(shè)備優(yōu)勢自動化程度高：機械手銜接上下工序，實現(xiàn)流水線作業(yè) 產(chǎn)能大，能耗低：產(chǎn)量最高可達50㎡/h 膜層性能優(yōu)越：多重精密光學(xué)膜疊加，最多可達14層，鍍膜重復(fù)性好

SOM-2550連續(xù)式磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備：破解汽車中控屏鍍膜難題，優(yōu)越性能與高效生產(chǎn)并重 隨著汽車科技的不斷進步，汽車中控屏的市場需求持續(xù)增長。如今的汽車中控屏已經(jīng)不再是簡單的信息顯示終端，而是融合了多媒體娛樂、導(dǎo)航、車輛控制、智能互聯(lián)等多種功能于一體。消費者對于中控屏的要求也越來越高，不僅期望其具備高分辨率、鮮艷的色彩表現(xiàn)和快速的響應(yīng)速度，還要求在不同的光照條件下都能清晰可見，并且具有良好的耐用性和抗劃傷性能。 汽車中控屏市場發(fā)展充滿了機遇，但同時也面臨著不少挑戰(zhàn)。其性能優(yōu)劣，與鍍膜技術(shù)息息相關(guān)。鍍膜技術(shù)是一種表面處理技術(shù)，用于提升材料性能，增強硬度、抗腐蝕性或光學(xué)特性。目前汽車中控屏鍍膜技術(shù)仍存在一些痛點，制約著中控屏性能的進一步提升。如鍍膜質(zhì)量不穩(wěn)定，膜層易脫落、起泡、變色，影響外觀和性能；可見光透過率低，屏幕顯示模糊，影響用戶體驗；硬度不足，易出現(xiàn)劃痕，降低美觀度和使用壽命；生產(chǎn)效率低，增加成本、延長交貨周期，影響市場競爭力。 針對汽車中控屏在實用性和生產(chǎn)效率方面遇到的挑戰(zhàn)，振華SOM-2550連續(xù)式磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備應(yīng)運而生，旨在解決行業(yè)難題，為汽車中控屏市場提供了高效、穩(wěn)定的鍍膜解決方案。該方案不僅顯著提高了鍍膜工藝的穩(wěn)定性和品質(zhì)，而且從本質(zhì)上改善了中控屏幕的實用性能，同時大幅提升了生產(chǎn)效率。

PVD（Physical Vapor Deposition）即物理氣相沉積，是一種通過物理方法在基材表面沉積薄膜的電鍍工藝。PVD鍍膜工藝流程通常包括以下步驟： 一、前處理 清洗工件：在進行PVD鍍膜前，需要對工件進行徹底的清洗，以去除表面的雜質(zhì)、油脂、氧化物等有害物質(zhì)，確保工件表面平整干凈。清洗時，可以接通直流電源，利用氬氣進行輝光放電，產(chǎn)生氬離子轟擊工件表面，使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出。 預(yù)處理：清洗后的工件可能還需要經(jīng)過進一步的預(yù)處理，如機械打磨、化學(xué)腐蝕、激光處理等，以提高電鍍膜的附著力和均勻度。 二、鍍膜準備 蒸發(fā)源裝填：在PVD鍍膜過程中，需要使用蒸發(fā)源來提供材料原子。蒸發(fā)源裝填是將材料蒸發(fā)源放置在特定的位置，以便在鍍膜過程中通過加熱使其蒸發(fā)。 抽真空：將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走，以創(chuàng)造鍍膜所需的真空環(huán)境條件。 加熱烘烤：爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放，進一步提高真空度。 壓升率測試：測試爐體的漏氣率和放氣率，確保真空環(huán)境條件滿足鍍膜標準。 三、鍍膜過程 鍍料的氣化：通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。 鍍料離子的遷移：氣化后的原子、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場的作用，高速沖向工件。 鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：當工件表面上的蒸發(fā)料離子數(shù)量超過濺失離子的數(shù)量時，這些離子將逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。如果是鍍離子鍍，蒸發(fā)料粒子電離后具有高能量，高速轟擊工件時，不僅沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層。 四、后處理 冷卻出爐：鍍膜完成后，需要冷卻工件以避免氧化變色。冷卻過程中，可以充入氮氣或氦氣等冷卻氣體，以提高降溫速度。 拋光與清洗：對鍍膜后的工件進行拋光和清洗，以去除表面污染物，提高薄膜質(zhì)量。

蒸發(fā)鍍膜與磁控濺射是兩種常見的物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，它們在原理、應(yīng)用及特點上存在顯著的區(qū)別。 一、原理區(qū)別 蒸發(fā)鍍膜： 蒸發(fā)鍍膜通過加熱固態(tài)材料至高溫，使其蒸發(fā)成氣態(tài)，然后在真空環(huán)境中擴散，最后在基片表面凝結(jié)形成薄膜。 常用的蒸發(fā)源包括電阻加熱、電子束加熱和激光加熱。 磁控濺射： 磁控濺射則是利用高能離子（通常是氬離子）轟擊靶材表面，使靶材原子濺射出來，并在基片表面沉積形成薄膜。 在濺射過程中，電子在電場的作用下加速飛向基片，與氬原子碰撞電離出大量的氬離子和電子。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子。同時，磁場束縛和延長電子的運動路徑，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。 二、應(yīng)用及特點區(qū)別 蒸發(fā)鍍膜： 優(yōu)點：蒸發(fā)鍍膜技術(shù)成熟度高，成膜速率快，成膜純度高。 缺點：薄膜附著力一般，且對于高熔點材料，蒸發(fā)鍍膜可能面臨加熱溫度限制的問題。 應(yīng)用領(lǐng)域：蒸發(fā)鍍膜廣泛應(yīng)用于光學(xué)反射鏡、濾光片、集成電路和太陽能電池等領(lǐng)域。 磁控濺射： 優(yōu)點：磁控濺射制備的薄膜附著力強，重復(fù)性好，且由于磁場可控特性，膜厚也可控。 缺點：薄膜中間可能較厚，兩邊較薄，且對于磁性靶材，磁控濺射的效果可能受到影響。 應(yīng)用領(lǐng)域：磁控濺射在制備高質(zhì)量、高性能的薄膜材料方面具有重要應(yīng)用，如光學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)薄膜等。