光學(xué)薄膜在手機(jī)等消費(fèi)電子產(chǎn)品中的應(yīng)用由傳統(tǒng)的攝像頭鏡片向多元化方向發(fā)展如攝像頭鏡頭、鏡頭保護(hù)片、紅外截止濾光片 (IR-CUT)、手機(jī)電池蓋NCVM鍍膜等。

CVD技術(shù)一般來(lái)說(shuō)，具有如下一些特點(diǎn): 1、設(shè)備的工藝操作都較簡(jiǎn)單、靈活性較強(qiáng)能制備出配比各異的單一或復(fù)合膜層和合金膜層； 2、CVD法的適用性較廣泛，可制備各種金屬或金屬膜涂層； 3、因沉積速率可高達(dá)每分鐘幾微米到數(shù)百微米，因此生產(chǎn)效率高； 4、與PVD 法相比較繞射性好，非常適宜涂覆形狀復(fù)雜的基體，如槽溝、涂孔甚至盲孔結(jié)構(gòu)均可鍍制成膜，涂層致密性好，由于成膜過(guò)程溫度較高，膜基界面上的附著力很強(qiáng)，故膜層十分牢固 5、承受放射線輻射后的損傷較低，能與 MOS 集成電路工藝相融合。

所謂真空鍍膜機(jī)工藝在真空環(huán)境下，利用蒸發(fā)、濺射等方式發(fā)射出膜材料粒子，沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上形成鍍膜層，

真空離子鍍膜機(jī)(簡(jiǎn)稱(chēng)離子鍍)是1963年美國(guó)的 Somdia 公司的 D.M.Mattox所提出20 世紀(jì) 70年代得到快速發(fā)展的一種全新的表面處理技術(shù)。