19
2023-05
信息顯示薄膜與離子鍍膜技術(shù)
在信息顯示器中，除了 TFT-LCD 與 OLED 中的薄膜外，還包括顯示面板中的配線電極薄膜及透明像素電極薄膜等。鍍膜工藝是 TFT-LCD 與 OLED 顯示器的核心工藝，隨著信息顯示技術(shù)的不斷進(jìn)步，信息顯示領(lǐng)域的薄膜的性能要求越來越嚴(yán)格，需要精確控制均勻性、厚度、表面粗糙度、電阻率及介電常數(shù)等參數(shù)。
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19
2023-05
真空蒸發(fā)鍍膜層的生長規(guī)律
蒸發(fā)鍍膜時(shí)，膜層的形核、長大規(guī)律是各種離子鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)。
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12
2023-05
增強(qiáng)型輝光放電離子鍍膜技術(shù)的共同特點(diǎn)
由于增設(shè)了提高離化率的裝置，提高了放電電流密度，偏壓降低為 0.5~1kV.
減少了高能離子的過度轟擊造成的反濺射和對工件表面的損傷效應(yīng)。
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09
2023-05
柱狀磁控濺射靶的優(yōu)點(diǎn)
1) 比平面靶的靶材利用率高。在鍍膜過程中，無論是旋磁型還是旋靶管型柱狀磁控濺射靶，靶管表面各個(gè)部位連續(xù)經(jīng)過永磁體前面產(chǎn)生的濺射區(qū)接受陰極濺射，靶材可以受到均勻的濺射刻蝕，靶材利用率高。靶材利用率高達(dá)80%~90%。
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