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行業(yè)資訊

ito鍍膜生產(chǎn)線小圖

鈣鈦礦太陽能電池中的鍍膜技術(shù)

2009年，鈣鈦礦薄膜電池開始出現(xiàn)時(shí)轉(zhuǎn)換效率僅為 3.8%，之后轉(zhuǎn)換效率提升很快，到2018年時(shí)，實(shí)驗(yàn)室效率已經(jīng)超過 23%。鈣鈦礦化合物的基本分子式為ABX3,A位置通常為金屬離子，如 Cs+、Rb+，或者是有機(jī)官能團(tuán)。

輝光放電離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展

輝光放電離子鍍技術(shù)使膜層粒子總體能量升高，這個(gè)突出優(yōu)點(diǎn)擴(kuò)展了真空鍍障技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域，成為 1963 年以來真空鍍膜技術(shù)發(fā)展的熱點(diǎn)。

離子鍍膜的特點(diǎn)及用途

化學(xué)氣相沉積技術(shù)簡(jiǎn)介

化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition)技術(shù)，簡(jiǎn)稱CVD技術(shù)。它是利用加熱、等離子體增強(qiáng)、光輔助等手段在常壓或低壓條件下使氣態(tài)物質(zhì)通過化學(xué)反應(yīng)在基體表面上制成固態(tài)薄膜的一種成膜技術(shù)。

影響真空蒸鍍性能的因素

1、蒸發(fā)速率對(duì)蒸鍍涂層的性能影響蒸發(fā)速率的大小對(duì)沉積膜層的影響較大。由于低的沉積速率形成的涂層結(jié)構(gòu)松散易產(chǎn)生大顆粒沉積，為保證涂層結(jié)構(gòu)的致密性，選擇較高的蒸發(fā)速率是十分安全的。

電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)

電子槍蒸發(fā)源型直流二極離子鍍膜的工藝過程

電子槍蒸發(fā)源直流二極型離子鍍膜的工藝過程比蒸發(fā)鍍膜的工藝過程復(fù)雜，其工藝過程如下:

太陽能鍍膜生產(chǎn)線

太陽能光熱領(lǐng)域的鍍膜技術(shù)

太陽能光熱應(yīng)用的歷史比光伏應(yīng)用更長，1891 年就出現(xiàn)了商用太陽能熱水器太陽能光熱應(yīng)用是通過吸收太陽光，將光能轉(zhuǎn)換成熱能后直接利用或者儲(chǔ)存起來也可通過加熱蒸汽驅(qū)動(dòng)發(fā)電機(jī)轉(zhuǎn)換成電能使用。

硬質(zhì)涂層鍍膜機(jī)

沉積硬質(zhì)涂層的常規(guī)技術(shù)

硬質(zhì)涂層多是金屬陶瓷涂層 (TiN 等)，由涂層中的金屬和反應(yīng)氣化合反應(yīng)生成。最初是采用熱 CVD 技術(shù)在 1000℃高溫下由熱能提供化合反應(yīng)激活能，這樣的溫度只適合在硬質(zhì)合金刀具上沉積 TiN 等硬質(zhì)涂層，至今仍然是在硬質(zhì)合金刀頭上沉積 TiN--Al2O3復(fù)合涂層的重要技術(shù)。

陰極電弧離子鍍膜機(jī)

空心陰極離子鍍膜的條件

引燃空心陰極弧光需要具備以下條件：

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