1、默認(rèn)配套24塊載片，有效鍍膜面積高達(dá)約8平方米，與常規(guī)電子束蒸發(fā)光學(xué)機(jī)對比，其產(chǎn)能增加約50%，能耗降低約20%。 2、配備獨(dú)立鍍膜腔，始終保持鍍膜室的真空狀態(tài)有利于保證鍍膜的品質(zhì)，節(jié)省抽真空時間，降低能耗。 3、濺射沉積+高轉(zhuǎn)速轉(zhuǎn)架模式保證膜層厚度精準(zhǔn)，應(yīng)力小，重復(fù)性好。 4、配備可分隔的進(jìn)出料腔，進(jìn)出料均可實(shí)現(xiàn)全自動運(yùn)行，進(jìn)料與出料同時進(jìn)行，提高生產(chǎn)效率，節(jié)約人工成本。

真空元件，如閥門、捕集器、除塵器和真空泵等相互聯(lián)接時，應(yīng)盡量作到抽氣管路短，管道流導(dǎo)大，導(dǎo)管直徑一般不小于泵口直徑，這是系統(tǒng)設(shè)計(jì)的一條重要原則。但同時要考慮到安裝和檢修方便。

真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層

在真空室內(nèi)采用真空弧光放電技術(shù)，在陰極材料表面產(chǎn)生弧光，使陰極材料形成原子和離子。在電場的作用下，原子和離子束高速轟擊作為陽極的工件表面。與此同時向真空室內(nèi)通入反應(yīng)氣體，即可在工件表面形成具有優(yōu)良性能的鍍層。