隨著市場(chǎng)多元化的不斷需求，對(duì)于很多企業(yè)來(lái)說(shuō)需要根據(jù)其產(chǎn)品的工序購(gòu)置不同的機(jī)器設(shè)備，拿真空鍍膜行業(yè)來(lái)說(shuō)，如果一臺(tái)機(jī)器就能完成從鍍膜前處理到鍍膜后處理，中間不需要人工干預(yù)不需要轉(zhuǎn)換工序，那么無(wú)疑是企業(yè)的香餑餑，在單設(shè)備上實(shí)現(xiàn)一體化多功能成為了鍍膜設(shè)備企業(yè)的共同需求。 真空鍍膜設(shè)備普遍應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，無(wú)論是小產(chǎn)品還是大產(chǎn)品、金屬制品還是塑膠制品、亦或者陶瓷、芯片、電路板、玻璃等產(chǎn)品，基本上所有需要進(jìn)行表面處理鍍膜的都需要用到。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發(fā)鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍，在控制技術(shù)上，更多的應(yīng)用先進(jìn)的計(jì)算機(jī)技術(shù)和微電子技術(shù)，使得真空鍍膜設(shè)備更具高效性和智能自動(dòng)化。

由金屬靶面通過(guò)反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過(guò)程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應(yīng)氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)生成化合物原子，通常是放熱反應(yīng)，反應(yīng)生成熱必須有傳導(dǎo)出去的途徑，否則該化學(xué)反應(yīng)無(wú)法繼續(xù)進(jìn)行。在真空條件下氣體之間不可能進(jìn)行熱傳導(dǎo)，所以化學(xué)反應(yīng)必須在一個(gè)固體表面進(jìn)行。反應(yīng)濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行。在基片表面生成化合物是我們的目的，在其他結(jié)構(gòu)表面生成化合物是資源的浪費(fèi)，在靶表面生成化合物一開(kāi)始是提供化合物原子的源泉，到后來(lái)成為不斷提供更多化合物原子的障礙。

機(jī)械泵也叫前級(jí)泵，機(jī)械泵是應(yīng)用最廣泛的一種低真空泵，它是用油來(lái)保持密封效果并依靠機(jī)械的方法不斷的改變泵內(nèi)吸氣空腔的體積，使被抽容器內(nèi)氣體的體積不斷膨脹從而獲得真空。機(jī)械泵有很多種，常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類(lèi)型。