眾所周知，半導(dǎo)體的含義顧名思義就是其導(dǎo)電性介于干導(dǎo)體和絕緣體之間，其電阻率間于金屬和絕緣體之間，通常在室溫時為1mΩ·cm～1GΩ·cm 范圍之內(nèi)。近年來，真空半導(dǎo)體鍍膜在各大半導(dǎo)體企業(yè)中，顯然其地位是越來越高的，特別是在一些大規(guī)模集成系統(tǒng)電路的開發(fā)技術(shù)研究方法以磁電變換器件、發(fā)光器件等研制工作方面的體現(xiàn)尤為明顯，真空半導(dǎo)體鍍膜具有重要的作用。

防指紋鍍膜機采用磁控濺射成膜技術(shù)，不但解決了膜層附著力、硬度、耐臟污、耐摩擦性、耐溶劑性、耐老化、耐水泡及水煮等性能問題，而且可以AR膜和AF膜同爐生產(chǎn)，特別適合于金屬和玻璃表面顏色裝飾、AR膜、AF/AS膜的大規(guī)模生產(chǎn)。該設(shè)備裝載量大，效率高，工藝簡單，操作方便，膜層一致性好。除了優(yōu)越的膜層性能外，且具有環(huán)保的制程。

真空磁控濺射鍍膜特別適用于反應(yīng)沉積鍍膜，實際上，這種工藝可以沉積任何氧化物、碳化物以及氮化物材料的薄膜。此外，該工藝也特別適合用于多層膜結(jié)構(gòu)的沉積，包括了光學(xué)設(shè)計、彩色膜、耐磨涂層、納米層壓板、超晶格鍍膜、絕緣膜等。早在1970年，已經(jīng)有了高質(zhì)量的光學(xué)薄膜沉積案例，開發(fā)了多種光學(xué)膜層材料。這些材料包括有透明導(dǎo)電材料、半導(dǎo)體、聚合物、氧化物、碳化物以及氮化物等，至于氟化物則多是用在蒸發(fā)鍍膜等工藝當(dāng)中。

磁控濺射鍍膜設(shè)備采用中頻磁控濺射及多弧離子相結(jié)合技術(shù)，適用于塑膠、玻璃、陶瓷、五金等產(chǎn)品，如眼鏡、手表、手機配件、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻性好，具有產(chǎn)量大，產(chǎn)品良率高等特點。磁控濺射鍍膜設(shè)備采用中頻磁控濺射及多弧離子相結(jié)合技術(shù)，適用于塑膠、玻璃、陶瓷、五金等產(chǎn)品，如眼鏡、手表、手機配件、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。膜層的附著力、重復(fù)性、致密度、均勻性好，具有產(chǎn)量大，產(chǎn)品良率高等特點。