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2023-12
真空濺射鍍膜的復(fù)興與發(fā)展
所謂濺就是用能粒子(通常用性氣體的正離子) 去擊固體(以下稱靶材)表面，從而引起靶材表面上的原子（或分子）從其中逸出的一種現(xiàn)象。這一現(xiàn)象是格洛夫(Grove) 于 1842 年在研究陰極腐蝕問題實驗時，陰極材料被遷移到真空管壁上而發(fā)現(xiàn)的。
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2023-11
磁控濺射鍍膜的特點
磁控濺射鍍膜與其他鍍膜技術(shù)相比，其顯著特征為：工作參數(shù)有大的動態(tài)調(diào)節(jié)范圍鍍膜沉積速度和厚度(鍍膜區(qū)域的狀態(tài)) 容易控制，對磁控靶的幾何形狀沒有設(shè)計上的限制，以保證鍍膜的均勻性
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2023-11
刀具行業(yè)中薄膜的應(yīng)用
隨著新型材料不斷涌現(xiàn)，碳纖維復(fù)合材料、超硬陶瓷等應(yīng)用比重不斷增加，采用傳統(tǒng)硬質(zhì)合金刀具和高速鋼刀具加工新型材料會出現(xiàn)高磨損、加工效率低等問題。
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2023-11
薄膜的光學(xué)特征
以金屬薄膜為例，其光學(xué)特性表現(xiàn)為：1.勢透射率決定于金屬膜的光學(xué)常數(shù)和出射介質(zhì)的光學(xué)導(dǎo)納，而與人射介質(zhì)無關(guān)
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