膜層的機(jī)械性能受附著力、應(yīng)力、聚集密度等的影響，由膜層材料和工藝因素之間的關(guān)系可知，如果要提高膜層的機(jī)械強(qiáng)度就應(yīng)該著重考慮以下幾個(gè)工藝參數(shù)： (1)真空度。真空度對(duì)薄膜的性能影響是很明顯的。膜層絕大部分性能指標(biāo)的好壞對(duì)真空度的依賴性很大。通常，隨著真空度的提高，膜層聚集密度增大，牢固度增加，膜層結(jié)構(gòu)得到改善，化學(xué)成分變純，但同時(shí)應(yīng)力也增大。 (2)沉積速率。提高沉積速率不僅可以用提高蒸發(fā)速率，即提高蒸發(fā)源溫度的辦法，還可以用增大蒸發(fā)源面積的辦法來(lái)達(dá)到，但是采用提高蒸發(fā)源溫度的辦法有其缺點(diǎn):使得膜層應(yīng)力太大;成膜氣體易分解。所以有時(shí)增大蒸發(fā)源面積比提高蒸發(fā)源溫度更為有利。

透明導(dǎo)電氧化物薄膜具有可見(jiàn)光透射率高、電阻率低,以及耐腐蝕性較好和化學(xué)穩(wěn)定性高等

光學(xué)真空鍍膜機(jī)大多數(shù)是熱蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備,主要由三大部分組成:真空系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)和膜層厚度控制系統(tǒng)。

3.基片溫度的影響 基片溫度是膜層生長(zhǎng)的重要條件之一。它對(duì)膜層原子或分子提供額外能量補(bǔ)充，主要影響膜層結(jié)構(gòu)、凝集系數(shù)、膨脹系數(shù)、聚集密度。宏觀反映在膜層折射率、散射、應(yīng)力、附著力、硬度和不溶性都會(huì)因基片溫度的不同而有較大差異。